과학기술정보통신부는 2일 제5회소재·부품·장비 기술특별위원회를 개최하고 ‘국가연구인프라(3N) 2단계 지정(안)’을 심의·의결했다.

‘국가연구인프라(3N) 2단계 지정(안)’은 과기정통부가 ‘소재·부품·장비 연구개발 투자전략 및 혁신대책(2019.8.28)’의 후속조치로,기술역량 강화와 산업현장 지원을 위해 13개 국가연구실(N-LAB), 5개 국가연구시설(N-Facility) 및 15개 국가연구협의체(N-TEAM)를 2단계 지정하는 내용을 담고 있다.

이번 2단계 지정으로 1단계 지정 된 12개 국가연구실 및 6개 국가연구시설과 함께 우리나라 소재·부품·장비 기술자립을 위해 큰 역할을 할 것으로 기대된다.

김상식 민간위원장은국가연구인프라 2단계 지정과 관련해 “이번 국가연구인프라 2단계 지정으로 소재·부품·장비분야의 연구 역량을 결집할 수 있는 기반이 마련되었으며, 앞으로 산업현장과 잘 연계하여 소재·부품·장비분야 자립역량 강화에 기여할 수 있는 인프라로 자리잡기를 바란다”라고 말했다.

한편, 이날 소재·부품·장비 기술특위는 메모리 반도체, 디스플레이 관련 소재 전문기업 ㈜네패스(대표 이병구)에서 진행되었으며, 회의개최에 앞서 약 한시간 가량 생산시설을 참관하고 기업의 애로사항 등 현장의견을 청취하는 시간을 가졌다.

특위 위원들은 반도체, 디스플레이 등 주요 부품 생산 현장을 직접 둘러보고, 소재·부품·장비 관련 산·연 협업 노하우 및 효과적인 산업현장 지원을 위한 현장의견 등을 공유했다.

김성수 과학기술혁신본부장은 “코로나19로 인해 광범위한 글로벌 공급망(GVC) 충격이 예상되는 가운데, 소부장 자립을 위한 지속적인 정책 추진을 위해서는 현장과의 소통이 매우 중요하다”하면서, “앞으로도 산업현장 수요에 신속·유연하게 대응하기 위해 지속적으로 기업의 의견을 경청할 것”이라고 밝혔다. 또한 “이번 국가연구인프라 2단계 지정을 통해 소재·부품·장비 분야 연구인프라가 성공적으로 조성되어 효과적인 산업현장 지원이 가능할 것으로 기대한다”고 말했다.